在当前包含物联网、工业自动化、人工智能、自动驾驶、5G通讯等新科技逐步提高的状况下，带动了半导体的生长，并使得芯片需求大幅提升。而为了迎接这些应战，导入新的资料增加效能，在持续摩尔定律过程中，资料技术不时演进，且应用的资料实质也开端改动。而特用化学原料暨先进科技资料龙头供给商英特格（Entegris Inc.）即透过运用科学为根底，以提供处理计划，并辅佐半导体客户在先进制程上应对各种应战。

英特格技术长James O’Neill指出，英特格成立迄今曾经有50年历史，去年整体营收达16亿美圆。而在当前新的资料、芯片、外形都与过去不同，关于半导体制程来说都是很复杂的应战。

举例来说，从28纳米转换到7纳米，复杂水平是过去的两倍。技术要考证得要更快，所以整个消费周期时间都是更短的。这也表示我们在采用先进制程时，要达成较佳的良率更为艰难，产业的重点就在于如何快速到达好的良率。这也就是英特格的优势所在。

James O’Neill表示，要进步良率重点之一是污染控制，从28纳米到7纳米，关于金属杂质容忍水平曾经减少1,000倍，而晶圆致命微粒则减少将近4倍，这点十分重要，由于只需杂质或微粒等污染的容忍水平有了细微变动， 电子元器件采购网 对晶圆厂获利都会形成很大的影响。整个半导体生态系中，每个步骤都要顾忌污染控制，包括工厂中怎样制造和包装化学品、如何运送与在工厂中运用与贮存，每个步骤都相当重要。英特格有各项产品和处理计划，确保整个制程、保送时不受污染。

James O’Neill进一步强调，由于蚀刻技术的大幅进步，如今半导体厂开端导入的是极紫外光EUV设备及技术。而英特格在EUV制程的污染控制与光罩盒是市场指导者，旗下的过滤技术能确保资料放在pattern上维持干净度。此外，

半导体制程中，运用EUV的光蚀刻技术可再进一步细分红好几个步骤，这使得英特格不只提供光罩盒，还有特殊化学品、过滤器、过滤技术，以及制程中各方面需求的资料和污染控制，惟有英特格可以提供最普遍的处理计划。

James O’Neill也证明，由于目前全球半导体厂仅有3家晶圆代工厂，包括台积电、三星及英特尔有才能持续推进先前制程，特别龙头台积电估计2020年将开端量产6纳米，以及愈加先进的5纳米制成，带动台湾将来的导体业悲观前景。而因而，英特格肯定与这3家厂商停止协作，持续提供相关处理计划给客户，以满足在先进制程上的需求。

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